[发明专利]一种低温制备非晶硅膜材料的方法、得到的产品和用途

摘要

本发明涉及一种低温制备非晶硅膜材料的方法、得到的产品和用途。所述低温制备非晶硅膜材料的方法包括：采用高密度等离子体增强化学气相沉积设备制备非晶硅膜材料，气相沉积的温度≤100℃，所述高密度等离子体增强化学气相沉积设备的功率≤300W。本发明的方法可以在100℃以下制备得到非晶硅膜材料，且得到的非晶硅膜材料具有良好的光学性能，在633nm波长对应的折射率为3.2～3.4，消光系数为0.0015～0.0025，在四英寸基底范围内薄膜均匀性好；其较现有等离子体增强化学气相沉积得到的非晶硅膜材料的沉积温度有明显降低，且可以在石英玻璃、金属薄膜以及有机柔性衬底上制备非晶硅材料。