[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 202010074732.0 | 申请日: | 2020-01-22 |
公开(公告)号: | CN112310053A | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 川城史义 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
主分类号: | H01L25/07 | 分类号: | H01L25/07;H01L23/12;H01L23/367;H01L21/50 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘英华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 实施方式提供成品率提高的半导体装置。半导体装置具备第1基体部件,具有第1侧面;第1绝缘板,设置于第1基体部件的上方;第1金属板,设置于第1绝缘板的上方;第1半导体芯片,设置于第1金属板的上方;第1接合部件,将第1金属板与第1半导体芯片接合;第2接合部件,将第1基体部件与第1绝缘板接合;第2基体部件,具有第2侧面;第2绝缘板,设置于第2基体部件的上方;第2金属板,设置于第2绝缘板的上方;第2半导体芯片,设置于第2金属板的上方;第3接合部件,将第2金属板与第2半导体芯片接合;第4接合部件,将第2基体部件与第2绝缘板接合;以及基体接合部,设置于第1侧面与第2侧面之间,第1侧面与第2侧面接合。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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