[发明专利]一种微结构模具超声空化辅助超声磁力抛光方法有效

专利信息
申请号: 202010078242.8 申请日: 2020-01-24
公开(公告)号: CN111215970B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 梁志强;李蒙招;杜宇超;王西彬;周天丰;赵文祥;焦黎;解丽静;刘志兵 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: B24B1/04 分类号: B24B1/04
代理公司: 北京慧而行专利代理事务所(普通合伙) 11841 代理人: 李锐
地址: 100081 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种双超声辅助磁力抛光微结构模具的装置和方法,通过单独设置产生超声空化效应的超声振动装置,能够保证抛光区域产生充分的超声空化现象,增大抛光压力,同时,由于微结构模具完全浸没在抛光液中,抛光液中的纳米SiO2颗粒对模具材料也有一定抛光作用,利于模具材料的去除,提高抛光表面质量。此外,不同于现有技术中机床超声主轴垂直于待抛光工件的表面,本发明中的机床超声主轴平行于微结构模具的待抛光表面设置,通过环形永磁体的圆周面进行抛光加工,整个抛光加工区域的切向线速度从中心到边缘是一致的,因此增大了抛光加工速度,提高了加工效率。
搜索关键词: 一种 微结构 模具 超声 辅助 磁力 抛光 方法
【主权项】:
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