[发明专利]一种掩模版缺陷修复方法及装置

摘要

本发明公开一种掩模版缺陷修复方法及装置，涉及光刻技术领域，以快速准确的修复各种图形的掩模版的缺陷，使得掩模版缺陷的修复方式具有普适性。所述掩模版缺陷修复方法包括：接收掩模版的几何结构信息；根据所述掩模版的几何结构信息对掩模版图形进行分段编码，获得图形分段编码；所述图形分段编码包括至少一种图形特征分段编码；采用遗传算法对所述图形分段编码进行优化，获得图形分段编码的优化结果；根据所述图形分段编码的优化结果修复所述掩模版图形的缺陷。所述装置应用于上述技术方案所提的掩模版缺陷修复方法。本发明提供的掩模版缺陷修复方法用于修复掩模版缺陷。