[发明专利]存储器装置及其制造方法在审
| 申请号： | 202010083988.8 | 申请日： | 2020-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN113257783A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 张皓筌 | 申请（专利权）人： | 华邦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/528 | 分类号： | H01L23/528;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王天尧;汤在彦 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种存储器装置及其制造方法，该装置包含衬底、埋入式字元线、连接结构、气隙和第一介电层。埋入式字元线设置于衬底内。连接结构设置于埋入式字元线上。气隙设置于埋入式字元线上且邻接连接结构。第一介电层设置于连接结构和气隙上，其中埋入式字元线、连接结构及第一介电层沿衬底顶表面的法线方向设置。 | ||
| 搜索关键词： | 存储器 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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