[发明专利]拍摄装置及拍摄光学系统在审

专利信息
申请号: 202010084830.2 申请日: 2020-02-10
公开(公告)号: CN111565268A 公开(公告)日: 2020-08-21
发明(设计)人: 小崎由纪夫;佐藤裕之 申请(专利权)人: 唯光世株式会社
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;G03B37/04
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 王丽
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供维持优异的拍摄性能的同时能够应对小型化要求的拍摄装置等。该拍摄装置具备:使被摄体像成像的多个光学系统;与多个光学系统分别对应的多个拍摄传感器;多个光学系统的各自的光路通过的共用的透过光学元件;框体部,收容光学系统、拍摄传感器以及透过光学元件,具有沿着基准轴的周向的周面,其中,多个光学系统中的至少两个分别具有沿着周面配置的位于最靠物体侧的周面透镜和在透过光学元件的内部相互交叉的第一光路。
搜索关键词: 拍摄 装置 光学系统
【主权项】:
暂无信息
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