[发明专利]化学机械抛光液及其应用在审
| 申请号： | 202010084910.8 | 申请日： | 2020-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN113249035A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 赵东旭 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹卫良 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光液及其应用，其中的化学机械抛光液的成分包括石墨粉、硅烷偶联剂、聚乙二醇、PH调节剂、次氯酸钠氧化剂、氧化镧研磨颗粒和酞箐。上述配制的化学机械抛光液能够对硅、铜及氧化硅同时具有非常高的抛光速度，表面良好的粗糙度和较低的残余应力。通过硅烷偶联剂、氧化剂、石墨粉、聚乙二醇、酞箐，实现了化学机械抛光液的高研磨速率，解决复合薄膜表面粗糙度控制的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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