[发明专利]基于双焦光子筛的径向剪切干涉仪在审
| 申请号： | 202010084951.7 | 申请日： | 2020-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN113252190A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 张军勇;李垚村 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01J9/02 | 分类号： | G01J9/02;G02B27/42 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种基于双焦光子筛的径向剪切干涉仪，包括两个全同的双焦光子筛、图像探测器和计算机，所述的两个双焦光子筛的焦点相互对应，生成两套4f系统，使得入射的待测波面被分成两束大小不同的波面在图像探测器上发生剪切干涉，所述的计算机从图像探测器接收的干涉图中可以提取出剪切相位差，能够获得光束中携带的相位信息。本发明具有结构简单、对实验环境要求低和抗干扰能力强的特点，可应用于波前检测、干涉成像和自适应光学等诸多领域。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 光子 径向 剪切 干涉仪 | ||
【主权项】：
暂无信息
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