[发明专利]光传感器装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202010088151.2 申请日: 2020-02-12
公开(公告)号: CN111554753A 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 塚越功二 申请(专利权)人: 艾普凌科有限公司
主分类号: H01L31/0203 分类号: H01L31/0203;H01L31/02;H01L31/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 何欣亭;闫小龙
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 将光半导体元件(4)固定在基部(3)的凹部(3b),将光半导体元件(4)的焊盘部和基部(3)的引线部(6)电连接。在基部(3)的外侧区域的突出部(3a)的上表面设置有:具有切口部(13a、13b)的金属化层(9)、接合层(10)、具有切口部(12a、12b)的金属化层(8)、以及盖部(2)。提供一种能够通过使用金属化层(8、9)和接合层(10)来将盖部与基部(3)气密地接合的光传感器装置。
搜索关键词: 传感器 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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