[发明专利]金属电容在审
| 申请号： | 202010091136.3 | 申请日： | 2020-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN113258001A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 陈重光;李家庆;黄建福;胡家铭 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L49/02 | 分类号： | H01L49/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种金属电容。金属电容包含设置于衬底上方的第一金属层与第二金属层。第一金属层包含第一电极片与第二电极片。第二金属层包含第三电极片与第四电极片。第一平面电容形成于第一电极片与第二电极片之间；第二平面电容形成于第三电极片与该第四电极片之间。第四电极片的至少一部分位于第一电极片的上方，且第一纵向电容形成于第一电极片与第四电极片之间。第三电极片的至少一部分位于第二电极片的上方，且第二纵向电容形成于第二电极片与第三电极片之间。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 电容 | ||
【主权项】：
暂无信息
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