[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 202010091291.5 申请日: 2020-02-13
公开(公告)号: CN111668218A 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 林汉镇;金奇南;丁炯硕;郑圭镐;黄棋铉 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108
代理公司: 北京汇知杰知识产权代理有限公司 11587 代理人: 李洁;董江虹
地址: 韩国京畿道水*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种半导体器件,所述半导体器件能够通过使用包含铁电材料及顺电材料的电容器介电膜来增大电容器的电容而改善元件的性能和/或可靠性。所述半导体器件包括:被设置成彼此间隔开的第一电极与第二电极;以及电容器介电膜,设置在第一电极与第二电极之间且包括第一介电膜及第二介电膜。所述第一介电膜包括第一单金属氧化物膜及第一双金属氧化物膜中的一者,第一介电膜具有正交晶系,第二介电膜包含顺电材料,且电容器介电膜的介电常数大于第二介电膜的介电常数。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
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