[发明专利]减反射涂层在审

专利信息
申请号: 202010092137.X 申请日: 2020-02-14
公开(公告)号: CN111580194A 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 王德岩;刘盛 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
主分类号: G02B1/113 分类号: G02B1/113;G09F9/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋;钱文宇
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种用于形成减反射膜的可固化组合物。所述组合物包含:(a)中空二氧化硅纳米颗粒;(b)具有反应性基团的硅氧烷粘合剂;(c)至少一种具有反应性基团的附加材料;(d)引发剂;以及(e)溶剂。所述硅氧烷粘合剂以(硅氧烷粘合剂+具有反应性基团的附加材料)的总重量的至少50重量%的量存在。中空二氧化硅纳米颗粒与(硅氧烷粘合剂+具有反应性基团的附加材料)的总和的重量比是不大于1.75至1。
搜索关键词: 反射 涂层
【主权项】:
暂无信息
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