[发明专利]一种会切场低推力射频离子推力器有效
申请号: | 202010094636.2 | 申请日: | 2020-02-13 |
公开(公告)号: | CN111322214B | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 朱悉铭;孟圣峰;金泉;宁中喜;王彦飞 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | F03H1/00 | 分类号: | F03H1/00 |
代理公司: | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人: | 李恩庆 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出了一种会切场低推力射频离子推力器,属于航天器推进技术领域,特别是涉及一种会切场低推力射频离子推力器。解决了现有射频离子推力器推力下限较高的问题。它包括射频天线、工质输送通道、电离室、铁氧体、永磁铁、直流电源、射频电源和栅极装置,所述电离室为圆柱形放电腔体,所述工质输送通道与电离室相连,中性气体通过工质输送通道进入电离室,所述射频电源设置于电离室的外部,所述射频天线设置在电离室的顶部,并与铁氧体配合相连,所述射频天线的两端分别连接射频电源的两极,所述永磁铁环绕电离室布置,为多级结构且极性相对,所述栅极装置分别与直流电源的正极和负极相连。它主要用于射频离子推力器。 | ||
搜索关键词: | 一种 会切场低 推力 射频 离子 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学,未经哈尔滨工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010094636.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。