[发明专利]用于填充在衬底表面内形成的凹部的循环沉积方法和设备有效
| 申请号： | 202010095851.4 | 申请日： | 2020-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN111593319B | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 刘泽铖;V.波雷 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/04 | 分类号： | C23C16/04;C23C16/455;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种用于填充一个或多个凹部的方法，其通过在反应室中提供衬底；在第一脉冲时间内，将第一反应物引入衬底以形成第一活性物质；在第二脉冲时间内，将第二反应物引入衬底；以及在第三脉冲时间内，将第三反应物引入衬底以形成第二活性物质。还公开一种用于填充凹部的设备，以及公开一种使用所述方法和/或设备形成的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 填充 衬底 表面 形成 循环 沉积 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
