[发明专利]一种膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法

摘要

本发明公开了本发明提供一种膜层致密的等离子化学气相沉积法镀疏水膜方法，包括以下步骤：(1)、前处理：将待处理工件放入反应腔，向反应腔内通入C3F6和/或C4F8，在真空条件下以电离的C3F6和/或C4F8对工件表面进行处理；(2)、活化；(3)、汽化：将亲水材料和疏水材料混合均匀得到混合镀膜材料，汽化后的混合镀膜材料进入反应腔；(4)、沉积亲水膜：设定反应腔内的射频功率位第一功率，在真空度下沉积亲水膜，在沉积过程中对真空度由低到高进行调整；(5)、沉积疏水膜：在沉积过程中对真空度由低到高进行调整；(6)、后处理。本发明的方法具有疏水膜沉积速度快、附着牢固、膜层致密、生产周期短的优点。