[发明专利]一种层状结构的高熵合金薄膜材料的制备方法在审
申请号: | 202010097935.1 | 申请日: | 2020-02-17 |
公开(公告)号: | CN111270207A | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 任卫;朱楠楠;张永超;杨朝宁;李璐 | 申请(专利权)人: | 西安邮电大学 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/16;C23C14/02;C23C14/54 |
代理公司: | 重庆萃智邦成专利代理事务所(普通合伙) 50231 | 代理人: | 舒梦来 |
地址: | 710121 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种层状结构的高熵合金薄膜的制备方法,包括如下步骤:在高真空条件下,采用高能电子束依次对不同种类的金属蒸发料进行加热处理,使金属蒸发料依次蒸发,然后,依次沉积所蒸发的金属料,重复上述步骤,制备出金属材料周期排列的多层膜,最后在空气中进行800℃退火处理,形成层状结构的高熵合金薄膜;该层状结构的高熵合金薄膜的制备方法相比于传统方法而言,所需工艺设备简单,工艺流程可靠、过程简便,工艺参数可控,关键工序(改变每个沉积层的厚度和沉积元素比例及先后顺序)较易操作;所制备的薄膜成膜质量好,元素成分分布均匀。 | ||
搜索关键词: | 一种 层状 结构 合金 薄膜 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
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