[发明专利]场强分布可调的分裂式磁场辅助同轴激光熔覆装置在审
申请号: | 202010098490.9 | 申请日: | 2020-02-18 |
公开(公告)号: | CN111118497A | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 王梁;罗建;姚建华 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | C23C24/10 | 分类号: | C23C24/10 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 王兵;黄美娟 |
地址: | 310014 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 场强分布可调的分裂式磁场辅助同轴激光熔覆装置,包括与激光光路同轴设置的激光传输通道、喷嘴,激光传输通道外套有轴套套筒,激光传输通道和轴套套筒的下端均连接喷嘴;轴套套筒与激光传输通道、喷嘴同轴心设置;轴套套筒上套接有轴套,轴套上套接卡槽环装置,卡槽环装置包括上锥齿轮卡槽环、传动锥齿轮、下锥齿轮卡槽环,其中传动锥齿轮与轴套固结,上锥齿轮卡槽环、下锥齿轮卡槽环分别通过轴承连接在轴套套筒上;传动锥齿轮的上下侧分别与上锥齿轮卡槽环、下锥齿轮卡槽环啮合。本发明的外加稳态磁场可随激光熔覆头同步移动,可以实现复杂路径的调控加工,方便快捷,适用范围广。 | ||
搜索关键词: | 场强 分布 可调 分裂 磁场 辅助 同轴 激光 装置 | ||
【主权项】:
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