[发明专利]信息处理装置、存储介质、光刻装置、产品的制造方法以及产品的制造系统在审
| 申请号： | 202010103445.8 | 申请日： | 2020-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN111597171A | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 山本健司;増田充宏 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G06F16/215 | 分类号： | G06F16/215;G06N3/04;G06N3/08;G06N20/10;H01L21/027;G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张小稳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及信息处理装置、存储介质、光刻装置、产品的制造方法以及产品的制造系统。信息处理装置使用第一系统输出校正数据，该第一系统输出用于校正限定要在光刻装置中执行的处理的条件的校正数据，该光刻装置在基板上形成图案。第一系统包括在输入指示处理的结果的处理结果的情况下输出校正数据的第一模型，以及在输入条件的情况下输出处理结果的第二模型。第一系统使用从第一模型输出的校正数据来校正条件，并且基于通过将校正后的条件输入到第二模型而输出的处理结果来输出校正数据。 | ||
| 搜索关键词： | 信息处理 装置 存储 介质 光刻 产品 制造 方法 以及 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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