[发明专利]基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法有效

专利信息
申请号: 202010104443.0 申请日: 2020-02-20
公开(公告)号: CN111400990B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 李天强 申请(专利权)人: 延锋伟世通电子科技(上海)有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G06F30/398
代理公司: 上海骁象知识产权代理有限公司 31315 代理人: 赵峰
地址: 200233 上海市徐汇*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种基于SIWAVE软件的ARM PDN优化设计方法,首先确定ARM的电源分配网络PDN的目标阻抗;在SIWAVE软件中,使用PDN电容指定S参数,编译Z参数;通过改变PDN布局或电容选择,使Z参数与目标阻抗的差值在设定范围内;确定需要优化的电容;设定仿真参数,重新编译计算,通过改变电容选择,使仿真阻抗在目标阻抗内,此时软件会自动去掉高环路电感的电容,得到最终的仿真结果;据此更改ARM PDN原理图,形成最终ARM PDN设计。本发明可以自动优化和配置电容的型号和数量,实现最佳的ARM PDN布局设计,从而能节省PCB空间,降低ARM电源噪声,提高EMC一次通过率,节省成本。
搜索关键词: 基于 siwave 软件 arm pdn 优化 设计 方法
【主权项】:
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