[发明专利]像素BANK制备方法、像素BANK结构、像素结构和显示面板在审

专利信息
申请号: 202010105858.X 申请日: 2020-02-20
公开(公告)号: CN111293151A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 吴小玲 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56;H01L51/52
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 刁文魁
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请涉及一种像素BANK制备方法、像素BANK结构、像素结构和显示面板;所述方法提供衬底基板,衬底基板上制作有阳极薄膜层;在衬底基板上涂覆用于覆盖阳极薄膜层的光阻层;通过曝光图形结构对光阻层进行光刻,并对光刻后剩余的光阻层进行烘烤固化,形成第一BANK层;曝光图形结构为全透孔、第一半透孔、不透孔和第二半透孔依次重复排列的结构;在第一BANK层上形成第二BANK层;第二BANK层为黑色BANK层。由于第一BANK层的中间部分厚度厚,抬高了第二BANK层的高度,在利用第二BANK层的黑色挡光特性,降低像素漏光的风险,进一步的,由于本申请像素BANK制备方法省略传统BANK设备过程中的Ashing工艺,降低了生产制造成本,节省了生产制造时间。
搜索关键词: 像素 bank 制备 方法 结构 显示 面板
【主权项】:
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