[发明专利]用于PSMA靶向的成像和放射疗法的金属/放射性金属标记的PSMA抑制物在审

专利信息
申请号: 202010106023.6 申请日: 2015-05-06
公开(公告)号: CN111285918A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: S·雷;M·G·庞珀;托马斯·J·米德;罗尼·C·米斯;陈颖;杨星;马修·罗茨 申请(专利权)人: 约翰霍普金斯大学;西北大学
主分类号: C07K5/062 分类号: C07K5/062;C07D403/14;A61K51/04;A61K51/08;A61K49/00;A61K49/10;A61K49/14;A61P35/00;A61K103/30;A61K103/40;A61K103/00;A61K103/20;A61K103/32
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 高瑜;郑霞
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请涉及用于PSMA靶向的成像和放射疗法的金属/放射性金属标记的PSMA抑制物。公开了用于PSMA特异性T1‑加权MR成像的低分子量基于钆(Gd)的MR造影剂。基于(Gd)‑的MR造影剂显示出对PSMA的高结合亲和力,并且在PSMA+细胞上表现出特异性T1对比增强。PSMA靶向的基于Gd的MR造影剂可用于体内PSMA靶向成像。还提供了86Y‑标记的PSMA结合脲,其中PSMA结合脲也适合与其它放射疗法一起使用。
搜索关键词: 用于 psma 靶向 成像 放射疗法 金属 放射性 标记 抑制
【主权项】:
暂无信息
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