[发明专利]测量装置及方法、光刻系统、曝光装置及方法在审
| 申请号： | 202010107488.3 | 申请日： | 2016-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN111158220A | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 柴崎祐一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G01B11/00;G01D5/347 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王天尧;汤在彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种测量装置及方法、光刻系统、曝光装置及方法，该测量装置(100)具备可保持基板(W)与XY平面平行移动的滑件(10)、驱动滑件的驱动系统、可从读头部(32)对设置于滑件具有格子部(RG1)的测量面照设多条光束并接收该多条光束各个的来自测量面的返回光束以测量滑件的包含绝对位置坐标的至少3自由度方向的位置信息的位置测量系统(30)、检测基板上的标记的标记检测系统(MDS)以及一边控制滑件的驱动并一边使用标记检测系统分别检测基板上的多个标记一边根据各标记的检测结果与检测时的位置测量系统的测量信息求出各标记的绝对位置坐标的控制装置。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 装置 方法 光刻 系统 曝光 | ||
【主权项】：
暂无信息
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