[发明专利]一种铁电薄膜表面功函数的测定方法在审
| 申请号： | 202010108083.1 | 申请日： | 2020-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN111307872A | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 张万里;毛燕湖;崔莲 | 申请（专利权）人： | 长江师范学院 |
| 主分类号： | G01N27/02 | 分类号： | G01N27/02;G01N27/00 |
| 代理公司： | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人： | 胡逸然 |
| 地址： | 408100 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铁电薄膜表面功函数的测定方法，包括：S1、在待测铁电薄膜表面制备具有不同功函数的金属顶电极；S2、测量不同金属顶电极与待测铁电薄膜之间的势垒差；S3、基于所述势垒差及金属顶电极的功函数生成所述待测铁电薄膜表面功函数。与现有技术相比，本发明可以使得在缺少大型检测功函数仪器情况下，较为方便地获得薄膜表面的功函数值，进而加深人们对氧化物铁电薄膜表面特性的认识及有效获得氧空位的浓度值，此外，本发明也可以大大提高我们对氧化物铁电薄膜表面属性的性能调控，以此获得最佳的制备薄膜参数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 表面 函数 测定 方法 | ||
【主权项】：
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