[发明专利]环境自适应指纹库的二次构建方法有效
| 申请号： | 202010110109.6 | 申请日： | 2020-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN111314896B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 杨静;曹秀伟 | 申请（专利权）人： | 西安理工大学 |
| 主分类号： | H04W4/80 | 分类号： | H04W4/80;H04W64/00;G01S5/02 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 张皎 |
| 地址： | 710048 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种环境自适应指纹库的二次构建方法，步骤包括：步骤1：在无干扰环境下，进行蓝牙模块Shadowing阴影传播模型的最小二乘法拟合；步骤2：无干扰环境下，构建初始指纹库Z |
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| 搜索关键词： | 环境 自适应 指纹 二次 构建 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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