[发明专利]光扩散膜在审
| 申请号： | 202010112166.8 | 申请日： | 2020-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN111610583A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 仓本达己;草间健太郎;片桐麦 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抑制了打痕、碎裂的产生的光扩散膜。该光扩散膜在膜内具有在折射率相对低的区域中具备多个折射率相对高的区域的内部结构，所述光扩散膜在23℃下的压痕弹性模量为30MPa以上。 | ||
| 搜索关键词： | 扩散 | ||
【主权项】：
暂无信息
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