[发明专利]一种铝钪合金溅射靶的制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 202010114483.3 申请日: 2020-02-25
公开(公告)号: CN113373414B 公开(公告)日: 2023-10-27
发明(设计)人: 闫建平;柳术平;吴承永;陈卫平;王晓平 申请(专利权)人: 湖南东方钪业股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22C28/00;C22C30/00
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 马强;胡凌云
地址: 410100 湖南省长*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种铝钪合金溅射靶的制备方法及应用,Sc的含量为8at%~53at%,致密度99%,Al、Sc元素的质量百分数之和99.9%,氧含量50ppm,适合用于形成压电性材料薄膜的溅射。根据Sc含量的不同对工艺进行调整,操作简单,氧含量低,致密度高,成分均匀无偏析现象。
搜索关键词: 一种 合金 溅射 制备 方法 应用
【主权项】:
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