[发明专利]官能性聚氢倍半硅氧烷树脂组成物、产生其的方法及其用途有效

专利信息
申请号: 202010114667.X 申请日: 2020-02-25
公开(公告)号: CN111607089B 公开(公告)日: 2023-10-10
发明(设计)人: 汤玛斯·葛达;阮亮堂;马可斯·劳卡南;基摩·卡瑞斯德;奥斯卡里·凯赫克宁;朱哈·连达拉 申请(专利权)人: 彼博股份有限公司
主分类号: C08G77/14 分类号: C08G77/14;C08G77/12;G03F7/004;G09F9/00;H01B1/20
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 隆翔鹰
地址: 芬兰艾斯博*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及半导体衬底上的用于在其上形成图案的含碳‑碳不饱和键、含卤素以及含溶解度增强子的涂层。可通过将半导体衬底涂布有含碳‑碳不饱和键、含卤素以及含溶解度增强子的聚氢倍半硅氧烷树脂溶液来产生本发明涂层。本文还提供一种用于利用特定波长下的光辐射来图案化用含碳‑碳不饱和键、含卤素以及含溶解度增强子的聚氢倍半硅氧烷涂布的衬底的方法,方法包括以下步骤:沿选定图案照射经涂布衬底以形成具有照射涂层的区域和具有未照射涂层的区域的经照射结构,以及选择性地显影经照射结构以去除大部分的未照射涂层以形成图案化衬底。
搜索关键词: 官能 性聚氢倍半硅氧烷 树脂 组成 产生 方法 及其 用途
【主权项】:
暂无信息
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