[发明专利]多次同向刻蚀制备微透镜阵列的模具的方法有效
| 申请号： | 202010114922.0 | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN111221059B | 公开（公告）日： | 2023-01-20 |
| 发明（设计）人： | 王淼 | 申请（专利权）人： | 嘉兴驭光光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G03F7/00;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人： | 郝文博;韩炜 |
| 地址： | 314500 浙江省嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种多次同向刻蚀制备微透镜阵列模具的方法，所述方法包括：在基底上形成刻蚀防护部，所述刻蚀防护部基本对应于所述微透镜阵列中至少部分微透镜的分布；调节刻蚀机的刻蚀参数以获得适当的横向刻蚀速率和纵向刻蚀速率，所述适当的横向刻蚀速率和纵向刻蚀速率允许在所述基底中刻蚀出与所述至少部分微透镜的曲面面型基本一致的曲面；将基底置于刻蚀机中，在所述刻蚀参数下对所述基底进行刻蚀，以在所述基底中刻蚀出所述曲面。本发明还提供由所述方法制备的微透镜阵列，所述微透镜阵列可作为匀光片使用，具有大小不一、随机排布的微透镜，使入射光经衍射后不会产生水波纹图样，达到了很好的匀光效果。 | ||
| 搜索关键词： | 多次 同向 刻蚀 制备 透镜 阵列 模具 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉兴驭光光电科技有限公司，未经嘉兴驭光光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010114922.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
