[发明专利]一种超快速低损碳化硅衬底抛光液及其制备方法在审
| 申请号： | 202010116746.4 | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN111303772A | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 徐伟;魏汝省;李斌;王英民;何超;侯晓蕊;毛开礼;马康夫 | 申请（专利权）人： | 山西烁科晶体有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/04;H01L21/306;H01L33/00 |
| 代理公司： | 太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙) 14109 | 代理人： | 崔雪花;冷锦超 |
| 地址： | 030006 山西省太*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学机械抛光技术领域，具体为一种超快速低损碳化硅衬底抛光液及其制备方法，包括添加剂和抛光基液，抛光基液包括纳米金刚石微粉、强氧化剂，稳定剂等；添加剂按包括一定重量比的石墨烯、碳化钨、硅胶和二氧化钛；将添加剂各成分研磨成0.1‑0.35μm的颗粒，将石墨烯、碳化钨和二氧化钛混合加热后加入硅胶颗粒继续研磨；之后将其加入到温度为30‑39℃的抛光基液中混合；本发明所述添加剂对抛光基液具有平衡抛光时摩擦力作用，使碳化硅衬底在高速抛光的过程中，不会因为抛光速度加快而出现划痕或粗糙度加剧的问题，实现高速抛光的同时，降低表面粗糙度，减少划痕的目的，且整个精加工过程，加工精度高、自动化程度高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 快速 碳化硅 衬底 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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