[发明专利]一种伽马补偿方法、装置及设备、介质有效

专利信息
申请号: 202010117113.5 申请日: 2020-02-25
公开(公告)号: CN111210756B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 申丽霞;兰传艳;金泰荣 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G09G3/20 分类号: G09G3/20
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种伽马补偿方法、装置及设备,介质。该伽马补偿方法包括:将显示屏的一个区域作为基准区域,对所述基准区域进行伽马调试以满足目标伽马曲线;对所述基准区域外的一个或多个区域,测量得到所述区域的第一伽马曲线和所述基准区域的第二伽马曲线,根据所述第一伽马曲线与所述第二伽马曲线的偏差,确定该区域的补偿值,以使得补偿后该区域的伽马曲线与所述第二伽马曲线一致。本实施例提供的方案,对基准区域外的区域进行补偿,使得其伽马曲线与基准曲线的伽马曲线一致,提高了显示屏的均一性。
搜索关键词: 一种 补偿 方法 装置 设备 介质
【主权项】:
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