[发明专利]一种激光器芯片腔面微缺陷的损伤发展预测方法有效
| 申请号： | 202010117790.7 | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN111353223B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 贾华宇;温盛宇;李灯熬 | 申请（专利权）人： | 太原理工大学 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20 |
| 代理公司： | 太原晋科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14110 | 代理人： | 任林芳 |
| 地址： | 030024 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明属于半导体激光器领域；激光器腔膜损伤发展的预测研究目前还比较匮乏，现阶段多是对损伤完成以后的腔膜进行观测，分析和研究，因而分析的既成损伤是随机的，并没有规律可循，无法对损伤的发展做出精准的直观的预测，本发明提供一种激光器芯片腔面微缺陷的损伤发展预测方法，根据对样本的整理分析建立缺陷几何结构建模并进行仿真，获取缺陷处光强值，再对阈值进行预测，得到带微缺陷的损伤阈值损伤阈值，由能量传递原理对缺陷的损伤发展进行迭代预测分析，以直观的方式显示了缺陷带来的电磁场的变化。对激光器芯片的生产加工以及应用具有重要意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光器 芯片 腔面微 缺陷 损伤 发展 预测 方法 | ||
【主权项】：
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