[发明专利]一种适用于较差地质条件下偏压进洞的反压回填施工方法在审

专利信息
申请号: 202010117840.1 申请日: 2020-02-25
公开(公告)号: CN111365020A 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 张程凯;胡建华;闫自海;童育聪;尤鸿波;叶卡尔;李师;陈子健 申请(专利权)人: 中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司
主分类号: E21D11/10 分类号: E21D11/10;E21F16/02;E02D29/02;E02D17/20;E02D17/18
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 刘晓春
地址: 310011*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种适用于较差地质条件下偏压进洞的反压回填施工方法。当洞口段为围岩较破碎的Ⅴ级洞口、不满足“半明半暗”进洞的条件时,结合现有地势进行“人造地形”,在偏压侧施作正面及侧面挡墙,对正面挡墙及侧面挡墙内侧进行水泥土回填并碾压,以满足进洞条件。采用反压回填方法进洞施工,可解决傍山偏压、局部漏空的隧道进洞难题,同时可以减少浅埋偏压地段边、仰坡开挖高度,减少对山体的干扰和破坏,避免汛期施工造成的水土流失,减少了开挖对周边环境影响小,充分体现了人与自然和谐发展的理念。本发明可以实现安全进洞,对保证项目整体建成有重要作用,具有一定的推广和实用价值。
搜索关键词: 一种 适用于 较差 地质 条件下 偏压 进洞 回填 施工 方法
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