[发明专利]一种蚀刻液中金属离子的价态变化的获取方法及装置在审

专利信息
申请号: 202010119482.8 申请日: 2020-02-26
公开(公告)号: CN111289694A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 梅园 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G01N33/00 分类号: G01N33/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种蚀刻液中金属离子的价态变化的获取方法及装置,该方法包括:在石英晶体振荡片上沉积金属材料,得到金属层;采用蚀刻液对所述金属层进行蚀刻;分别获取蚀刻过程中所述石英晶体振荡片的振荡频率的变化量和所述金属层中金属元素的转移电子数的变化量;根据所述振荡频率的变化量获取所述金属元素的质量变化量;根据所述金属元素的质量变化量和所述金属元素的转移电子数的变化量得到所述金属元素的价态变化量。本发明的蚀刻液中金属离子的价态变化的获取方法及装置,能够提高金属离子的价态变化量的准确性。
搜索关键词: 一种 蚀刻 金属 离子 变化 获取 方法 装置
【主权项】:
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