[发明专利]基于金属纳米线的多层结构透明电磁屏蔽膜及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 202010124181.4 | 申请日： | 2020-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN111312434B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 张好斌;陈伟;于中振;刘柳薪 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | B32B7/10 | 分类号： | B32B7/10;B32B37/14;H01B5/14;H01B13/00;H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京思创大成知识产权代理有限公司 11614 | 代理人： | 高爽 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于金属纳米线的多层结构透明电磁屏蔽膜及其制备方法与应用。该多层结构透明电磁屏蔽膜由平行排列的两层以上的透明导电屏蔽薄膜组成，每层透明导电屏蔽薄膜包括：透明基体以及负载其上的金属纳米线层和活性材料层。本发明的透明电磁屏蔽膜具有高环境稳定性以及高透光率，还同时具有将机械振动能转化为电能以及作为焦耳热发热器和自供电触控薄膜的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 金属 纳米 多层 结构 透明 电磁 屏蔽 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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