[发明专利]一种腐蚀性、危险性气态前驱体的原子层沉积过程控制方法

摘要

本发明提出一种腐蚀性、危险性气态前驱体的原子层沉积过程控制方法，实现气态前驱体的精准控制和安全有序注入。本发明利用在前驱体注入两个气动阀门之间加装气态前驱体容量可调装置，精准控制前驱体的注入量，通过阀门有序开启和关闭前驱体注入气动阀门、真空泵抽气气动阀门以及载气吹扫气动阀门来分别实现两种腐蚀性、危险性气态前驱体的交替有序注入、准静止态扩散吸附反应、过量前驱体和反应产物移除等原子层沉积过程。本发明能够实现原子层沉积过程中腐蚀性、危险性气态前驱体用量的精准控制，减少该类前驱体的使用安全隐患，降低环境压力和使用成本。