[发明专利]含羟基的酸扩散抑制剂及其制备方法与光刻胶组合物

摘要

本发明公开了一种含羟基的酸扩散抑制剂及其制备方法和应用。所述含羟基的酸扩散抑制剂的结构如通式(I)所示，包含na和羟基结构的部分为羟基功能单元；包含R3、R4和nb的部分为碱性功能单元。所述含羟基的酸扩散抑制剂溶解性好能更有效改善本身在光刻胶内的分布，提高光刻胶分辨率和线宽粗糙度，改善光刻胶的成膜能力。其制备方法，反应条件温和，效率高。将所述含羟基的酸扩散抑制剂应用于光刻胶组合物时，其具有分布固定、酸扩散抑制能力高并且与酸活性树脂性质匹配、成膜能力好的特点。