[发明专利]套刻误差测量装置及方法在审
申请号: | 202010130830.1 | 申请日: | 2020-02-28 |
公开(公告)号: | CN113325666A | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 杨晓青 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种套刻误差测量装置及方法,所述套刻误差测量装置包括照明单元、分光器件、物镜、第一探测单元和数据处理器。所述第一探测单元包括第一孔径光阑,所述第一孔径光阑包括至少一个可调节通孔。调节所述通孔,当所述第一孔径光阑为第一状态时,所述第一探测器获取第一信号并传输至所述数据处理器,当所述第一孔径光阑为第二状态时,所述第一探测器获取第二信号并传输至所述数据处理器。所述第一信号为校准信号,通过所述第一信号校准所述第二信号并利用校准后的第二信号计算出套刻误差。因此,利用所述套刻误差测量装置及方法可获取更为精准的套刻误差,从而提高套刻误差测量装置的检测性能,提高工作效率。 | ||
搜索关键词: | 误差 测量 装置 方法 | ||
【主权项】:
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