[发明专利]特定拍摄条件下的在轨外方位元素自检校方法及系统在审
| 申请号： | 202010132518.6 | 申请日： | 2020-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN111272196A | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 蒋永华;张过;张莉 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G01C25/00 | 分类号： | G01C25/00;G06F17/11;G06F17/16 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 严彦 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种特定拍摄条件下的在轨外方位元素自检校方法及系统，包括对两景影像分别利用卫星的内方位元素、姿态轨道、扫描帧时和影像对应区域的高精度数字高程模型DEM构建严密几何成像模型；针对偏航角相差180°的两景影像，基于灰度进行匹配，获取配准点；根据两次影像几何定位误差大小相近、方向相反的特点，结合两景影像和所建立的严密几何成像模型，将配准点转换为控制点，利用控制点实现外方位元素自检校。与现有技术相比，本发明在无需地面控制点条件下消除了俯仰角、滚动角系统误差，有效提升了无控制定位精度，可以为后续敏捷机动卫星的常态化检校提供技术基础，并为星上自主几何检校提供了可能性。 | ||
| 搜索关键词： | 特定 拍摄 条件下 外方 元素 自检 校方 系统 | ||
【主权项】：
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