[发明专利]一种用于硅晶片清洗后干燥、去污的装置及方法

摘要

本发明提供一种用于硅晶片清洗后干燥、去污的装置及方法。本发明包括：箱体，箱体内部设有容纳待处理硅晶片的空间，箱体包括物料进出口，所述箱体外壁布置多个微波源，其用于挥发掉硅晶片表面的水和污染残留，所述箱体设有进风口和出风口，所述进风口外部连接有进风管道和/或所述出风口外连接有出风管道，进风管道和/或出风管道与风机相连，使得进风口与出风口之间形成用于干燥硅晶片的空气流道。本发明能够提高干燥效率，降低能耗，在干燥过程中，利用微波能，蒸发硅片表面的水分，同时分解清洗剂残留，达到干燥、去污的目的，提高产品合格率，用较少的设备即可配合清洗流程的节拍，减少设备资金投入，减少占地面积和维护成本。