[发明专利]埋点曝光处理方法、装置及设备在审
| 申请号： | 202010140044.X | 申请日： | 2020-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN111338923A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 武兵;胡波;王起超 | 申请（专利权）人： | 北京新氧科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F11/34 | 分类号： | G06F11/34;G06F16/958 |
| 代理公司： | 北京中知君达知识产权代理有限公司 11769 | 代理人： | 李辰;黄启法 |
| 地址： | 100102 北京市朝阳区创远路*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开是关于一种埋点曝光处理方法、装置及设备。该埋点曝光处理方法包括：获取可回收控件在屏幕内所有可见的第一子控件的索引位置；仅在所述第一子控件为在屏幕内首次可见时，将该第一子控件的索引位置作为埋点数据上报给服务器。本公开提供的方案，能提高埋点分析准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 处理 方法 装置 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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