[发明专利]AlN-金刚石热沉、制备方法和应用以及半导体激光器封装件有效
申请号: | 202010141022.5 | 申请日: | 2020-03-03 |
公开(公告)号: | CN113355650B | 公开(公告)日: | 2023-03-10 |
发明(设计)人: | 戴玮;曹剑;徐晓明;张金玉;王雪梅;李嘉强 | 申请(专利权)人: | 核工业理化工程研究院 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/503;C23C16/01;C23C16/56;C23C14/06;C23C14/35;C23C14/02;H01S5/024 |
代理公司: | 天津创智睿诚知识产权代理有限公司 12251 | 代理人: | 李薇 |
地址: | 300180 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: |
本发明公开了一种AlN‑金刚石热沉、制备方法和应用以及半导体激光器封装件,所述AlN‑金刚石热沉的制备方法包括以下步骤:步骤1,对钼片表面进行研磨处理、清洗并干燥;步骤2,通过直流电弧等离子体喷射化学气相沉积方法在钼衬底的表面沉积金刚石膜,然后降至常温,使金刚石厚膜与钼片脱离;步骤3,利用化学机械抛光方法对自支撑金刚石膜进行抛光,得到表面平坦化的金刚石片,清洗干燥;步骤4,对表面平坦化的金刚石片进行反溅射处理;步骤5,在所述反溅射处理后的金刚石片的表面通过直流溅射沉积AlN膜,沉积结束后,在N |
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搜索关键词: | aln 金刚石 制备 方法 应用 以及 半导体激光器 封装 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的