[发明专利]光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法

摘要

提供光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法，提供即使辅助图案产生缺陷也不发生显示装置等电子器件的制造成品率或生产效率降低的光掩模的修正方法。转印用图案通过曝光而在被转印体上形成具有期望CD值的孔图案，包含由透光部构成的主图案(11)；配置在主图案(11)附近且具有利用曝光分辨不出的宽度且具有相移作用的辅助图案(12)；和在主图案(11)和辅助图案(12)以外的区域形成的低透光部(13)。通过进行下述步骤修正光掩模：确定步骤，辅助图案(12)产生了缺陷时，通过增减主图案(11)CD值，确定在被转印体上具有期望CD值的修正转印用图案的形状；和修正步骤，基于确定步骤中得到的形状，实施增减主图案(11)的CD值来修正为主图案(111)的修正加工。