[发明专利]光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法

摘要

提供光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法，能够在不从光掩模卸下保护膜的情况下对转印用图案的缺陷进行修正。一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。