[发明专利]一种AlGaN基二极管及其制备方法有效
申请号: | 202010145389.4 | 申请日: | 2020-03-03 |
公开(公告)号: | CN111341893B | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 张韵;倪茹雪;刘喆;张连;程哲 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/00;H01L33/14;H01L33/32;H01S5/34;H01S5/343 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供了一种AlGaN基二极管,包括:在衬底上依次外延生长的AlN层、有源层与P型层,其中,所述P型层的边缘区域经向下刻蚀直至AlN层内,形成第一台面,所述第一台面上外延生长有N型层。通过本公开提供的AlGaN基二极管,可以降低器件制备的难度。 | ||
搜索关键词: | 一种 algan 二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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