[发明专利]基于超表面的广角散射和定向散射的元件结构及设计方法有效

专利信息
申请号: 202010147224.0 申请日: 2020-03-05
公开(公告)号: CN111413754B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 代尘杰;李仲阳;郑国兴;李子乐;万成伟;杨睿;时阳阳;万帅 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;G02B27/00;G06F30/20
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 艾小倩
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种基于超表面的广角散射和定向散射的元件结构及设计方法。本发明的设计方法针对工作波长,优化设计单元结构,通过改变硅纳米砖转向角可以调控相位,将所需的散射光场输入算法,计算相位排布,根据算法给出的相位梯度排布硅纳米砖的转向角,用工作波长垂直照射即可得到所需的广角散射或定向散射光场。本发明方法设计流程简单且设计的相位梯度通用;提高了对光散射方向的控制能力,使光散射到设计的角度范围;散射元件为超表面,更轻薄以及便于集成化;可广泛应用于光学照明、光学成像等领域。
搜索关键词: 基于 表面 广角 散射 定向 元件 结构 设计 方法
【主权项】:
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