[发明专利]一种阵列基板及其制备方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 202010148099.5 申请日: 2020-03-05
公开(公告)号: CN113363264A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 卢鑫泓;曹占锋;王珂;王久石;朱小研 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/15;G09F9/33
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 郭栋梁
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板及其制备方法和显示装置,所述阵列基板划分为发光单元区、绑定区和连接在发光单元区和绑定区之间的弯折区;所述阵列基板包括衬底基板、有机材料层、金属中间层;所述金属中间层位于所述有机材料层远离所述衬底基板的一侧;其中,所述发光单元区被配置为设置发光单元,所述绑定区用于与控制电路绑定,第一保护层,位于所述金属中间层和所述有机材料层之间;第二保护层,位于所述金属中间层远离所述衬底基板的一侧;树脂绝缘层,位于所述第二保护层远离金属中间层一侧;所述衬底基板位于所述弯折区的部分被去除。采用本申请的方案能简单方便实现弯折基板的制备,相比现有方案的难度大大降低。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
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