[发明专利]一种基于高阶交叉相位的涡旋光整形和多奇点操控方法在审

专利信息
申请号: 202010150885.9 申请日: 2020-03-06
公开(公告)号: CN111338091A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 王琛;任元;刘通;丁友;王元钦;陈理想;邱松;陈琳琳 申请(专利权)人: 中国人民解放军战略支援部队航天工程大学
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;G02B27/09;G03H1/00
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 陈超
地址: 101416*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种基于高阶交叉相位的涡旋光整形和多奇点操控方法。涡旋光是一种具有螺旋波阵面的特殊光场,交叉相位是一种特殊的光场相位结构,3阶及以上称为高阶交叉相位。首先利用多参量联合调控技术制备携带涡旋光信息与高阶交叉相位的全息图样,并加载到空间光调制器,一束线偏振高斯光束照射到空间光调制器进行复振幅调制,出射光为携带高阶交叉相位的涡旋光,传播一段距离后即可得到所需形状和奇点分布的涡旋光。本方法光路简洁,灵活性强,属于涡旋光操控领域,可应用于复杂涡旋光的整形和多奇点操控。
搜索关键词: 一种 基于 交叉 相位 涡旋 整形 奇点 操控 方法
【主权项】:
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