[发明专利]用于分子构象空间分析的势能面扫描方法及系统有效
| 申请号： | 202010153174.7 | 申请日： | 2020-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN111415710B | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 万晓;杨明俊;欧阳力;孙广旭;刘阳;马健;温书豪;赖力鹏 | 申请（专利权）人： | 深圳晶泰科技有限公司 |
| 主分类号： | G16C10/00 | 分类号： | G16C10/00;G16C20/80 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 胡吉科 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种用于分子构象空间分析的势能面扫描方法及系统包括：判断分子是否有相邻二面角；如果有相邻二面角，通过QM计算判断相邻二面角是否耦合，若判断不耦合，则进行一维势能扫描，若判断耦合则进行MM耦合判断；若MM计算判断该相邻二面角不耦合，则进行一维势能面扫描；若MM计算判断该相邻二面角耦合，则根据MM扫描结果计算两个二面角各自的一维势能面扫描得到的极值点组合对二维势能面上极值点的覆盖度；若覆盖度好，则进行一维势能面扫描；该扫描方法及系统，对于不同分子根据情况采用不同的构象扫描方法，灵活性高，既能兼顾计算效率，又能保证准确性，最大限度保留分子构象空间里的重要构象，扫描结果能更准确反映分子的构象空间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分子 构象 空间 分析 势能 扫描 方法 系统 | ||
【主权项】：
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