[发明专利]一种3D曝光机高精度对位方法有效
| 申请号： | 202010155642.4 | 申请日： | 2020-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN111983896B | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | 苏显斌;李林波;张光辉;原馨 | 申请（专利权）人： | 广东安达智能装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市兰锋盛世知识产权代理有限公司 44504 | 代理人： | 罗炳锋 |
| 地址： | 523000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种3D曝光机高精度对位方法，包括：步骤S1，将预设的纸质基材固定在曝光平台上；步骤S2，在曝光文件内绘制小圆点以及与小圆点相对应的位置标号；步骤S3，主控制器根据曝光文件控制激光曝光机构出射激光束，进而在纸质基材上照射形成小圆点；步骤S4，利用相机系统拍摄纸质基材上的小圆点图像；步骤S5，获取小圆点的边缘位置数据以及小圆点位置信息，同时计算小圆点的中心位置坐标；步骤S6，主控制器根据单应矩阵原理构建关系矩阵，通过控制UVW运动平台运动使得激光曝光机构的激光曝光位置与玻璃工件上的待曝光位置一致。本发明可提高激光对位精度、能提高对位标定效率、无需手动操作、更具自动化性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 高精度 对位 方法 | ||
【主权项】：
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