[发明专利]外延气体注入单元及外延反应器在审
| 申请号： | 202010156424.2 | 申请日： | 2020-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN111254490A | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 张凌云;王力 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;张博 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种外延气体注入单元及外延反应器，属于半导体技术领域。外延气体注入单元包括：注射帽，所述注射帽包括多个气体入口和多个气体出口，所述气体入口与所述气体出口一一对应连通，每一所述气体入口通过气体管道与气体净化器连通；气体注入挡板，所述气体注入挡板包括多个与所述气体出口对应的通孔，以使得从所述气体出口排出的气体流过所述通孔，所述通孔靠近所述注射帽的入口的直径小于所述通孔远离所述注射帽的出口的直径。通过本发明的技术方案，能够改善外延层薄膜厚度均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 外延 气体 注入 单元 反应器 | ||
【主权项】：
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